在該技術(shù)迅速發(fā)展的時(shí)代，金屬電鍍?cè)O(shè)備是電鍍行業(yè)的大發(fā)明和革新，隨著時(shí)代的發(fā)展，電鍍?cè)O(shè)備發(fā)展了傳統(tǒng)的方法和方式，風(fēng)格也變得多樣化，質(zhì)量也有了很大的提高。消費(fèi)者也需要做出更多的選擇。企業(yè)要確保市場(chǎng)，不斷使自己的產(chǎn)品質(zhì)量滿足顧客的需求，滿足顧客，在顧客面前培養(yǎng)持久的品質(zhì)信用。

接下來，讓我們看一下以下選項(xiàng)的特點(diǎn)：

一、環(huán)形電鍍工藝線的優(yōu)良性：

1、自動(dòng)化技術(shù)水平高，，勞動(dòng)效率低，實(shí)際操作人員少

2、桿垂直升降機(jī)、電鍍工藝槽體積利用率高。

3.快門速度短，產(chǎn)品、工件動(dòng)作穩(wěn)定，每個(gè)機(jī)械臂的時(shí)間約為20~100s

4、表面涂層質(zhì)量規(guī)定高、大、情況簡(jiǎn)單、加工工藝完善的電鍍工藝輕型車設(shè)備化學(xué)鍍生產(chǎn)線(又稱鯖魚)。

金屬電鍍基礎(chǔ)知識(shí)：影響鍍層燒焦的因素主鹽濃度過低

對(duì)于氯化甲鍍鋅、光亮酸銅、鍍鎳等簡(jiǎn)單鹽電鍍，當(dāng)主鹽濃度過低時(shí)，鍍層易燒焦。原因是：（1）主鹽濃度過低時(shí)，陰級(jí)界面液層中主鹽濃度本身很低，電流稍大，放電后即缺乏金屬離子，H+易乘機(jī)放電；（2）鍍液本體的主鹽濃度低，擴(kuò)散與電遷移速度都下降，陰級(jí)界面液層中金屬離子的補(bǔ)充速度也低，濃差級(jí)化過大。

配合物電鍍則較復(fù)雜。若單獨(dú)提高主鹽濃度，則配合比變小，陰級(jí)電化學(xué)級(jí)化不足。在保持配合比不變的前提下，要提高主鹽濃度，配位劑濃度應(yīng)按比例提高，即鍍液應(yīng)濃，但這受多種因素制約，鍍液濃度不可隨意提高。